以学部委员黄坤、王首武和邓国辉为首的十二名光刻机半导体专家组成的专家鉴定组，通过现场测试，专家组组长黄坤亲自书写鉴定报告。
京城半导体设备股份有限公司研发成功的光刻机双工作台系统，在现场，对磁悬浮式双工作台系统进行了十次测试，能提升芯片制程工艺精度15%，提高芯片生产效率35%，还有不断提升的潜力，这项发明在光刻机专利技术中属于世界首创，属于重大核心技术发明，强烈推荐申请公司发明专利。
十二名专家组成员在鉴定报告上签名同意。
魏建国下午四点拿到鉴定报告，四点半来到国家专利局，递交了公司发明专利的申请，公司发明专利申请被受理，将向社会公示六个月。
磁悬浮式光刻机双平台系统是世界光刻机核心技术中的首创技术，京城半导体设备公司通过国家专利局将向美国、日本、荷兰、韩国、德国和法国的国家专利局申请公司发明专利。
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“恭喜孙健！”
一直忙得焦头乱额的朱领导接到专利局秦局长的汇报后，心情愉悦，他一直关注京城半导体设备公司的建设和整合情况，打电话向孙健祝贺，心里感叹，不愧是国内首富，一个突发奇想，三个月不到的时间，公司就研发成功一项光刻机行业首创的重大核心技术专利，其他光刻机公司今后想提高制程工艺精度和产量，除了自己投入巨资研发，都绕不过这项重大核心技术专利。
京城半导体设备公司从此在世界光刻机半导体设备产业中有了话语权！
孙健是这项公司发明专利的设想者，邓国辉将他的名字排在发明人的前面，但被他亲手删除了。
“首长，邓国辉、欧阳明、陈伟长、钟德伟和夏季常同志都是好样的，我的信心更足了！”
哈哈……
朱首长哪能听不出孙健为五人表功？
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荷兰，埃因霍温。
ASML公司。
“普拉多，京城半导体设备公司上周三，向中国国家专利局递交了磁悬浮式光刻机双工作台系统的公司发明专利申请，能提高芯片制程工艺精度15%，提高芯片产量35%，对方抢在了我们的前面。”
理查德得到消息后，向普拉多汇报，工程师琼斯今年五月向公司申请，研发光刻机双工作平台系统项目，公司拨款一百万美元的研究经费，成立了二十人的项目联合研发组，如今还没有结果。
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