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第309章 手测参数注入数控大脑

作品:直播1980:网友教我手搓火箭作者:灵台三心
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他笑了。

笑着笑着,把脸埋进膝盖里。

---

光刻机活了。

但活过来只是第一关。

三天后,第一批试制硅片进入湿法刻蚀环节。

刻蚀槽是陈默用不锈钢焊的,简陋但干净。

酸液配方按照教科书上的标准比例调配。

第一片硅片放进去.

计时,取出,纯水冲洗,推到显微镜下。

江俊看了一眼,脸色变了。

“侧蚀太严重。”

他让开目镜,林希凑上去看。

5微米的线条,被酸液从两侧啃进去将近2微米。

剩下的线宽不到1微米,有些地方已经断了。

换配方,提高酸液浓度。

第二片,断线更多。

降低浓度,缩短时间。

第三片,沟槽底部没刻透。

连续三个通宵。

十七种配方。

没有一片合格。

第四天凌晨,刻蚀车间里弥漫着酸雾的味道。

陈默靠在墙角打盹,江俊的眼睛布满血丝。

林希坐在角落,闭上眼睛。

脑海里,直播间的画面亮了起来。

他把问题原原本本地说了一遍。

弹幕沉默了十几秒。

然后一个ID冒了出来:【材料狗不睡觉】。

【别用纯HF。】

【现在的光刻胶耐酸性差,纯氢氟酸刻蚀速率太快,根本控不住侧向钻蚀。】

紧接着,第二条弹幕:

【加NH4F做缓冲剂。氟化铵和氢氟酸的摩尔比6:1,槽液温度锁死35度。这个配方叫BOE,缓冲氧化物刻蚀液。】

第三条:

【关键点:35度恒温。温度每波动1度,刻蚀速率变化8%。你们没有恒温槽的话,用水浴锅套着不锈钢槽,温度计插在水浴里,人工盯着。】

第四条,另一个ID【半导体搬砖人】:

【NH4F这东西你们1983年应该能搞到,化工厂有。纯度不用太高,分析纯就够。】

弹幕区停了一秒。

然后齐刷刷一排:

【大佬!】

【材料狗永远不睡觉,但永远能救命!】

【六比一!记住了!考试要考!】

林希睁开

…。。
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